Nhà Sản phẩmLàm sạch wafer silicon

Độ chính xác cao Làm sạch wafer Silicon Hóa chất làm sạch siêu âm Hiệu suất tốt

Chứng nhận
Trung Quốc Changzhou Junhe Technology Stock Co.,Ltd Chứng chỉ
Trung Quốc Changzhou Junhe Technology Stock Co.,Ltd Chứng chỉ
Khách hàng đánh giá
Rất vui được gặp bạn ở Junhe, Conny. Cảm ơn sự giới thiệu chuyên nghiệp của bạn về sơn lớp phủ kẽm. Tôi sẽ kiểm tra mẫu sớm.

—— DOANH NGHIỆP GANESH

Đội ngũ chuyên nghiệp, dịch vụ chu đáo, giao hàng rất nhanh, và chúng tôi sẽ tiếp tục hợp tác với công ty mang Junhe !!!

—— Mahyar TASbihi

Tôi trò chuyện trực tuyến bây giờ

Độ chính xác cao Làm sạch wafer Silicon Hóa chất làm sạch siêu âm Hiệu suất tốt

Độ chính xác cao Làm sạch wafer Silicon Hóa chất làm sạch siêu âm Hiệu suất tốt
Độ chính xác cao Làm sạch wafer Silicon Hóa chất làm sạch siêu âm Hiệu suất tốt

Hình ảnh lớn :  Độ chính xác cao Làm sạch wafer Silicon Hóa chất làm sạch siêu âm Hiệu suất tốt

Thông tin chi tiết sản phẩm:
Nguồn gốc: Thường Châu tại Trung Quốc
Hàng hiệu: JUNHE
Chứng nhận: ISO9001 TS16949 SGS
Số mô hình: JH-1016
Thanh toán:
Số lượng đặt hàng tối thiểu: 500 kilôgam
Giá bán: Negotiable
chi tiết đóng gói: 1000kg / thùng
Thời gian giao hàng: Mười ngày sau khi nhận được khoản thanh toán tạm ứng
Khả năng cung cấp: 2 tấn mỗi ngày

Độ chính xác cao Làm sạch wafer Silicon Hóa chất làm sạch siêu âm Hiệu suất tốt

Sự miêu tả
Màu sắc: Chất lỏng không màu đến hơi vàng Specific weight: 1.01-1.25
PH: 12.0-14.0 Free alkalinity(piont): ≥13.5mg
Packing: 1000kg/barrel Validity time: one year
Điểm nổi bật:

Hóa chất tẩy rửa công nghiệp

,

hóa chất tẩy rửa siêu âm

Làm sạch một nhóm Silicon wafer với tỷ lệ hiệu suất hoàn hảo không màu với chất lỏng màu vàng
Mô tả Sản phẩm

1. ngắn gọn

Đây là sản phẩm được cấp bằng sáng chế để làm giảm mức điện tử và lát silicon cấp mặt trời trong khu vực pin năng lượng mặt trời và CNTT, và số bằng sáng chế là ZL200710020269.6. Sản phẩm này có chứa nhóm kép với hiệu suất tốt trong quá trình điều chế xà phòng hóa nhũ tương đối với các loại dầu có thể thu được từ dầu mỏ, có thể tách rời trong quá khứ, cũng như trong quá trình tách lớp đối với ion kim loại.

2. tính năng

1) các sản phẩm nhóm đơn với PPR hoàn hảo (tỷ lệ giá thực hiện)

2) không chứa canxi, magiê, kim loại, đồng, chì và phốt pho, và đáp ứng yêu cầu của RoHS.

3) bọt thấp, không tràn bọt trong làm sạch siêu âm.

4) hiệu suất tẩy nhờn tốt để đáp ứng yêu cầu của khu vực CNTT có độ chính xác cao.

3. thông số kỹ thuật

Xuất hiện Chất lỏng không màu đến hơi vàng
Trọng lượng riêng 1,01-1,25
PH 12.0-14.0
Độ kiềm tự do (piont) ≥13,5mg

4. Hướng dẫn sử dụng

1) cho nước tinh khiết vào bể làm sạch cho đến ba phần tư, sau đó, thêm chất ở nồng độ 3%, thêm nước đến mức làm việc, cuối cùng, làm nóng dung dịch tắm cho đến khi nhiệt độ làm việc.

2) cần thay đổi hoàn toàn dung dịch tắm sau khi tẩy một lượng silicon nhất định.

3) giảm thời gian tiếp xúc trong không khí để tránh quá trình oxy hóa.

4) nhiệt độ làm việc 50-65 độ, thời gian xử lý: 2-5 phút.

5. ghi chú

1) thanh năng lượng mặt trời không thể chạm vào nước, cần nhúng vào soliquiod hoặc chất tẩy nhờn nếu không thể làm sạch kịp thời

2) cần xử lý thanh năng lượng mặt trời kịp thời ngay khi nó đi vào quá trình tẩy dầu mỡ để tránh khô không khí.

3) giữ thanh năng lượng mặt trời ẩm ướt khi khử khí để tránh khô không khí.

4) để tránh phân mảnh, cần tắt công tắc bong bóng của bể no1 và no2 khi tẩy siêu âm, sau đó, bật công tắc sau khi sửa.

5) cần thay đổi số 5 và 7 bể sau một chu kỳ tẩy dầu mỡ.

6) lát silicon không thể chạm vào. Các công nhân phải làm việc với găng tay để tránh dấu vân tay.

7) để đạt được độ hở, cần phun silic lát ít nhất 30 phút trước khi khử mùi.

Tất cả sản phẩm
Lớp phủ kẽm
Lớp phủ Dacromet
Dip Spin
Dây chuyền phủ kim loại
Lò đóng rắn
Máy phun sương
Làm sạch wafer silicon
Kim loại cắt chất lỏng
Máy tráng kẽm
Phụ tùng máy
Hóa chất tiền xử lý kim loại

Chi tiết liên lạc
Changzhou Junhe Technology Stock Co.,Ltd

Người liên hệ: kyjiang

Tel: +8613915018025

Gửi yêu cầu thông tin của bạn trực tiếp cho chúng tôi (0 / 3000)