|
Thông tin chi tiết sản phẩm:
|
| Màu sắc: | Chất lỏng không màu đến hơi vàng | Specific weight: | 1.01-1.25 |
|---|---|---|---|
| PH: | 12.0-14.0 | Free alkalinity(piont): | ≥13.5mg |
| Packing: | 1000kg/barrel | Validity time: | one year |
| Làm nổi bật: | Hóa chất tẩy rửa công nghiệp,hóa chất tẩy rửa siêu âm |
||
1. ngắn gọn
Đây là sản phẩm được cấp bằng sáng chế để làm giảm mức điện tử và lát silicon cấp mặt trời trong khu vực pin năng lượng mặt trời và CNTT, và số bằng sáng chế là ZL200710020269.6. Sản phẩm này có chứa nhóm kép với hiệu suất tốt trong quá trình điều chế xà phòng hóa nhũ tương đối với các loại dầu có thể thu được từ dầu mỏ, có thể tách rời trong quá khứ, cũng như trong quá trình tách lớp đối với ion kim loại.
2. tính năng
1) các sản phẩm nhóm đơn với PPR hoàn hảo (tỷ lệ giá thực hiện)
2) không chứa canxi, magiê, kim loại, đồng, chì và phốt pho, và đáp ứng yêu cầu của RoHS.
3) bọt thấp, không tràn bọt trong làm sạch siêu âm.
4) hiệu suất tẩy nhờn tốt để đáp ứng yêu cầu của khu vực CNTT có độ chính xác cao.
3. thông số kỹ thuật
| Xuất hiện | Chất lỏng không màu đến hơi vàng |
| Trọng lượng riêng | 1,01-1,25 |
| PH | 12.0-14.0 |
| Độ kiềm tự do (piont) | ≥13,5mg |
4. Hướng dẫn sử dụng
1) cho nước tinh khiết vào bể làm sạch cho đến ba phần tư, sau đó, thêm chất ở nồng độ 3%, thêm nước đến mức làm việc, cuối cùng, làm nóng dung dịch tắm cho đến khi nhiệt độ làm việc.
2) cần thay đổi hoàn toàn dung dịch tắm sau khi tẩy một lượng silicon nhất định.
3) giảm thời gian tiếp xúc trong không khí để tránh quá trình oxy hóa.
4) nhiệt độ làm việc 50-65 độ, thời gian xử lý: 2-5 phút.
5. ghi chú
1) thanh năng lượng mặt trời không thể chạm vào nước, cần nhúng vào soliquiod hoặc chất tẩy nhờn nếu không thể làm sạch kịp thời
2) cần xử lý thanh năng lượng mặt trời kịp thời ngay khi nó đi vào quá trình tẩy dầu mỡ để tránh khô không khí.
3) giữ thanh năng lượng mặt trời ẩm ướt khi khử khí để tránh khô không khí.
4) để tránh phân mảnh, cần tắt công tắc bong bóng của bể no1 và no2 khi tẩy siêu âm, sau đó, bật công tắc sau khi sửa.
5) cần thay đổi số 5 và 7 bể sau một chu kỳ tẩy dầu mỡ.
6) lát silicon không thể chạm vào. Các công nhân phải làm việc với găng tay để tránh dấu vân tay.
7) để đạt được độ hở, cần phun silic lát ít nhất 30 phút trước khi khử mùi.
Tất cả sản phẩm
Lớp phủ kẽm
Lớp phủ Dacromet
Dip Spin
Dây chuyền phủ kim loại
Lò đóng rắn
Máy phun sương
Làm sạch wafer silicon
Kim loại cắt chất lỏng
Máy tráng kẽm
Phụ tùng máy
Hóa chất tiền xử lý kim loại
Người liên hệ: Mrs. June
Tel: +86 13915018025
Fax: 86-519-85913023
